納糯三維Nanoscribe（推薦指數：★★★★★）
納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017年11月8日，是德國Nanoscribe在中國的全資子公司。德國Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的衍生公司，現隸屬于LAB14集團，在高精度增材制造領域處于全球地位。
Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術，其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出傳統高精3D打印機100倍的三維微納器件，而全新系列Quantum X平臺系列更是世界上個基于雙光子灰度光刻（2GL?）的工業級打印系統，納糯三維科技依托母公司的技術優勢，在微納制造技術方面處于地位。
三維微納加工設備：
Quantum X系列：
技術突破：全球基于雙光子灰度光刻（2GL?）的工業級系統，將灰度光刻與雙光子聚合（2PP）結合，實現亞微米級精度（最小特征尺寸160nm）和光學質量表面（表面粗糙度≤10nm）。
功能特點：
1、支持2.5D拓撲結構設計（如多級衍射光學元件、自由曲面透鏡），減少多層微制造時間。
2、可處理6英寸硅晶片或玻璃載玻片，單機過夜效率達200個特征結構，適合快速原型制作及小批量生產。
3、配備自動滴膠模組和智能電子系統，優化打印流程，縮短研發周期。
4、支持光敏樹脂、納米顆粒復合物、生物材料等，適配微光學、生物醫療、光子學等領域。
典型應用：微透鏡陣列、光纖端面耦合結構、微流控芯片等。
【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅和創新者，從科研實驗室到工業生產現場，Nanoscribe提供高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【主營業務】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進封裝、光互聯納米制造
【應用領域】微光學、微機械、生物醫學工程、光子學技術
【產品優勢】Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術，全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL?)，可實現光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，A2PL?技術支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預結構化基底上的定位標記，并以納米級對準精度在指定位置直接打印自由曲面光學元件，確保打印結構與光學軸嚴格對齊。
【產品評價】Quantum X align系統代表了新一代對準3D打印技術的發展方向，可實現光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，并具備自動對準能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應用領域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學，加州理工學院，牛津大學，斯圖加特大學，麻省理工學院等
【技術領域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術在各項關鍵性突破研究中被提到，出現在2,100多份經同行評審的期刊出版物中
產品與服務：
納糯三維科技在中國市場主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設備，如Quantum X align系統等，這些設備可廣泛應用于微光學、微機械、生物醫學工程、光子學技術等領域。此外，公司還承擔著系統安裝、維護及專業培訓等本土化服務，為中國客戶提供了的解決方案。
