ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術(shù)，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時(shí)實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電和透光的功能。
閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存
ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
銦回收的難點(diǎn)在于其“稀”與“散”。一部廢舊手機(jī)含銦量不足0.02克，且深嵌于多層結(jié)構(gòu)的液晶面板中，與玻璃、塑料、其他金屬緊密復(fù)合。傳統(tǒng)的物理拆解難以分離，濕法冶金（酸/堿浸出）則面臨成分復(fù)雜、雜質(zhì)干擾、易產(chǎn)生二次污染等嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。
技術(shù)破局：從粗放走向精純
現(xiàn)代銦回收工藝已形成精細(xì)鏈條：
預(yù)處理與富集：機(jī)械破碎液晶屏 → 高溫焚燒去除有機(jī)物 → 酸溶浸出（常用硫酸/鹽酸），將銦等金屬轉(zhuǎn)入溶液。
深度分離提純（核心技術(shù)）：
溶劑萃取法：利用特定有機(jī)溶劑（如P204）選擇性“捕獲”溶液中的銦離子，實(shí)現(xiàn)與鐵、鋅、錫等雜質(zhì)的深度分離，富集倍數(shù)可達(dá)千倍。
離子交換法：功能樹脂吸附銦離子，適用于低濃度溶液提純。
電解沉積：對(duì)富銦溶液通電，在陰極析出粗銦。
高純精煉：對(duì)粗銦進(jìn)行真空蒸餾、區(qū)域熔煉等，去除微量雜質(zhì)（如鎘、鉛），產(chǎn)出純度高達(dá)99.99%（4N）以上的精銦，滿足高端ITO靶材要求。
綠色升級(jí)：循環(huán)經(jīng)濟(jì)的必由之路
相比開采原生礦（主要來自鋅冶煉副產(chǎn)品），從電子垃圾中回收銦具有顯著優(yōu)勢(shì)：
資源保障：1噸廢棄液晶面板可提取200-300克銦，品位遠(yuǎn)超原礦。
節(jié)能減排：回收能耗僅為原生銦生產(chǎn)的1/3，大幅降低碳排放。
環(huán)境友好：減少電子垃圾填埋污染，避免采礦生態(tài)破壞。
經(jīng)濟(jì)可行：銦價(jià)高企（曾超1000美元/公斤）賦予回收強(qiáng)勁動(dòng)力。
