井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝 。

井式真空爐主要技術(shù)參數(shù)

真空室工位數(shù)：1-3位

真空度：1Pa，加擴(kuò)散泵為5x10-3Pa

工作溫度：<1000℃

充氣的壓強(qiáng)：0.3Mpa（可控）

不銹鋼內(nèi)膽：Φ150-Φ350x1300mm(用戶自定)

恒溫區(qū)：600-1200mm±1℃

控溫方式：三點(diǎn)三段采用原裝進(jìn)口高精度控溫儀

控溫曲線：9段升降溫/999小時(shí)

工作方式：自動(dòng)或手動(dòng)自由轉(zhuǎn)換

單點(diǎn)精度：±1℃/24h

正壓、負(fù)壓均采用數(shù)字顯示表

可多工位同時(shí)工作