溫濕度要求比一般空調高一般空調要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。
恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區域必須控制在± 1°C及± 3%之內。
所需的外氣較多由于半導體工廠中，制程系統需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產生的揮發氣體和廢氣必須予以全數排除，故排氣量相當大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。
空調系統24小時全天運轉并監控管理半導體工廠部分制程設備，對溫濕度變化極為敏感，如黃光區Stepper光學機臺，些微的溫、濕度變化均會使設備的準度偏差，另外芯片等產品也必須置放在定溫定濕的環境下，故空調系統必須24小時監控管理之。
多層工業建筑的廠房絕大多數見于輕工、電子、儀表、通信、醫藥等行業，此類廠房樓層一般不是很高，其照明設計與常見的科研實驗樓等相似，多采用熒光燈照明方案。機械加工、冶金、紡織等行業的生產廠房一般為單層工業建筑，并且根據生產的需要，更多的是多跨度單層工業廠房，即緊挨著平行布置的多跨度廠房，各跨度視需要可相同或不同。
