溫濕度要求比一般空調高一般空調要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。
恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區域必須控制在± 1°C及± 3%之內。
空調系統24小時全天運轉并監控管理半導體工廠部分制程設備，對溫濕度變化極為敏感，如黃光區Stepper光學機臺，些微的溫、濕度變化均會使設備的準度偏差，另外芯片等產品也必須置放在定溫定濕的環境下，故空調系統必須24小時監控管理之。
半導體廠凈室室內壓力大小半導體廠凈室室內壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產區的環境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉成本。
氣流分布須均勻凈室空調為帶走凈室內所產生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當的控制。
工業廠房，指直接用于生產或為生產配套的各種房屋，包括主要車間、輔助用房及附屬設施用房。凡工業、交通運輸、商業、建筑業以及科研、學校等單位中的廠房都應包括在內。工業廠房除了用于生產的車間，還包括其附屬建筑物。
