凈室，又稱無塵室、潔凈室或清凈室，是指一個具有低污染水平的環境，這里所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發性氣體。更準確地講，一個凈室具有一個受控的污染級別，污染級別可用每立方米的顆粒數，或者用顆粒大小來厘定的。低級別的凈室通常是沒有經過的（如沒有受控的微生物），更在意的是凈室中的灰塵。
所需的外氣較多由于半導體工廠中，制程系統需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產生的揮發氣體和廢氣必須予以全數排除，故排氣量相當大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。
半導體廠凈室室內壓力大小半導體廠凈室室內壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產區的環境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉成本。
氣流分布須均勻凈室空調為帶走凈室內所產生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當的控制。
本標準適用于：
一、設計裝配式或部分裝配式的鋼筋混凝土結構和混合結構廠房；
二、編制廠房建筑構配件標準設計圖集。
注：①設計鋼結構廠房、受條件限制的改（擴）建廠房、現澆式鋼筋混凝土結構廠房、工藝對廠房有特殊要求的廠房或按本標準設計在技術經濟上會產生顯著不合理的廠房，可不執行本標準的某些規定；②采用新技術、新結構和新材料的廠房，可不受本標準某些規定的限制。
