在洗滌物體表面上的污垢時(shí)，能改變水的表面活性，提高去污、去垢效果的物質(zhì)。環(huán)保清洗劑相對(duì)于一般性的清洗劑來(lái)說(shuō)，因?yàn)榍逑磩┲泻械幕钚詣┖透鞣N助劑因可生物降解或者對(duì)環(huán)境污染很小而成為環(huán)保型清洗劑，又稱(chēng)環(huán)保清洗劑。

目前國(guó)內(nèi)的清洗一般使用的是強(qiáng)酸、堿加緩蝕劑的方式清洗，對(duì)設(shè)備損害較大，清洗效果也不夠理想。加之從事清洗業(yè)務(wù)的公司多是不具備清洗資質(zhì)的小公司，使清洗市場(chǎng)愈加混亂。一些具備清洗資質(zhì)的工程公司收費(fèi)較高，目前具備環(huán)保清潔劑生產(chǎn)能力的少之又少，國(guó)內(nèi)以?xún)?yōu)潔士清潔膏為首的環(huán)保型清潔劑認(rèn)知度相比國(guó)外品牌偏低。給企業(yè)及個(gè)人帶來(lái)了沉重的負(fù)擔(dān)。

水基型

水是最重要的清洗劑，有著其它任何清洗劑無(wú)法替代的作用和地位。普通的水很容易從自然界中得到，水有很強(qiáng)的溶解力和分散力。但是水的表面張力大，在使用中需要添加表面活性劑，以減小表面張力，增加表面濕潤(rùn)性。在一般工業(yè)清洗中，酸，堿和水的配合比較常見(jiàn)，有些金屬用水洗要加入防銹劑；在精密和超精密工業(yè)清洗中。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來(lái)衡量水純度。半導(dǎo)體工業(yè)要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產(chǎn)10MΩ/cm就可以了，還有一些行業(yè)對(duì)含量要求很?chē)?yán)。

半水基型

半水基型清洗劑也叫準(zhǔn)水基型清洗劑，是由高沸點(diǎn)溶劑及活性劑等組成如醇類(lèi)，有機(jī)烴類(lèi)等。通常含有5%一20%的水分，一般不易燃燒，但加溫清洗時(shí)水含量控制不當(dāng)，可能產(chǎn)生燃燒現(xiàn)象。半水基型清洗與溶劑洗有一些不同，它的清洗原理是剝離去除，而不是溶解。為了防止已經(jīng)剝落的油污再附到被清洗物上，清洗液要連續(xù)地循環(huán)，并增加油水分離器。半水洗通常清洗效果很好，但運(yùn)行成本較高，廢液不能再生回收，重復(fù)使用，含COD（化學(xué)耗氧量）較高，需要進(jìn)行廢水處理。